欧州、米国の半導体戦争に反発：旧型設備の規制も無意味？
米国が中国向け半導体輸出規制をDUV装置などの旧型設備にまで拡大しようとする中、欧州各国は自国の経済的利益を損なうとして反発を強めている。ASMLのCEOは、過度な規制が中国の自立化を加速させる可能性を警告する。
ASML に関するニュース
4億ドルの巨大マシン：ASMLの新型露光装置が切り拓くチップの未来、AnthropicVS政府の激しい攻防
ASMLの新世代High NA EUV露光装置が半導体製造の限界を塗り替えようとする一方、AnthropicはAI規制をめぐって政府機関と真っ向から対立している。算力の進化とAIガバナンスという二つの難題が、現代テクノロジーの行方を左右する
4億ドルの巨獣：半導体製造の時代を画す機械
オランダのASMLが開発した次世代High-NA EUV露光装置は、価格4億ドル・重量150トン超という半導体製造史上最高額の単一設備であり、2ナノメートルプロセスの量産実現に向けてムーアの法則の限界を再び塗り替えようとしている。
米国がASMLの最高級チップ製造装置が中国にある可能性を指摘、ASMLは否定
米国当局がASMLの最高級EUV露光装置が中国に転送された可能性を指摘したが、ASMLは厳格な輸出管理規制を遵守していると声明を発表し否定した。この「羅生門」的事件は、グローバルな半導体サプライチェーンにおける技術封鎖と商業利益の微妙なバラ
ASML CEO：誰も我々の独占的地位を揺るがすことはできない
ASML CEOのChristophe Fouquet氏が、EUV光刻機市場における同社の独占的地位の根拠と、競合他社が追いつくことは困難である理由を語った。地政学的圧力下でも、技術的壁は国家意志と市場力の合作によって築かれていると指摘した
ASML高NA EUV装置準備完了、次世代AIチップ離陸間近
ASMLは最新の高NA EUV露光装置が重要なテストを通過し、大規模生産準備段階に入ったと発表した。この技術により2nm以下のプロセスノードが可能となり、次世代AIチップの製造に道を開く。