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4億ドルの巨獣：半導体製造の時代を画す機械

オランダのASMLが開発した次世代High-NA EUV露光装置は、価格4億ドル・重量150トン超という半導体製造史上最高額の単一設備であり、2ナノメートルプロセスの量産実現に向けてムーアの法則の限界を再び塗り替えようとしている。

ASMLは最新の高NA EUV露光装置が重要なテストを通過し、大規模生産準備段階に入ったと発表した。この技術により2nm以下のプロセスノードが可能となり、次世代AIチップの製造に道を開く。